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簡要描述:Nonsequitur 大束流離子源離子槍Ion Guns: Model 1404 5eV – 3keV 氣相離子源聯(lián)系張經(jīng)理:I872I868549
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品牌 | 其他品牌 | 供貨周期 | 現(xiàn)貨 |
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Nonsequitur 大束流離子源離子槍
Model 1404設(shè)計特點:
高亮度電子沖擊離子源
連續(xù)可變光束能量,最多3kV
束流0-10uA
支持所有惰性氣體外加氮氣,可選氧氣功能,帶Thoria涂層燈絲
所有材料采用超高真空和耐腐蝕材料
配備可用于可變蝕刻區(qū)域和光束準(zhǔn)直的冷凝器透鏡
配備用于計算機控制的USB接口和圖形用戶界面
Nonsequitur 大束流離子源離子槍
Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學(xué)實驗,例如使用Auger 和ESCA進(jìn)行樣品制備和深度分析,可以用于惰性氣體。
在工作距離為25mm,束流大小為20µA時,光斑為直徑0.4mm。相比較于其他的離子槍而言,離子槍Model 1401能提供的電流密度是其他離子槍的1-倍。當(dāng)束流為1µA時,光斑最小可以選擇到50µm. 電子束能量可以在范圍5eV到5keV中選擇,并同時保持樣品的最佳聚焦。束流大小可以調(diào)節(jié),并不受電子束能量的影響,無需外部設(shè)備,可以直接從前面板進(jìn)行調(diào)節(jié)。
通過電子沖擊來生成離子,雙燈絲設(shè)計可以延長使用壽命,而無需中斷設(shè)備的使用。離子源的真空燈絲處于離軸狀態(tài),以防止燈絲材料沉積到樣品上。
Nonsequitur 銫離子槍 堿性離子槍設(shè)計特點
用戶可更換Frit離子源以產(chǎn)生各種離子
光斑可調(diào) 75um to >1mm for spatially defined sputtering
連續(xù)可變束流能量,最高 5keV
使用光束彎曲光學(xué)元件進(jìn)行中性種抑制
BTOF SIMS的光束消隱能力
集成束流監(jiān)控能力
可選光束束電極
采用適合超高真空和耐蝕刻的材料
用于減小光斑尺寸的透鏡偏轉(zhuǎn)
差速泵,以盡量減少主腔室氣體負(fù)載
Ion Guns Model 1407 設(shè)計特點
緊湊型離子源,雙等離子發(fā)射器
可調(diào)節(jié)的束斑, ≥ 15µm ,用于空間定義的濺射
可調(diào)節(jié)發(fā)射,提供穩(wěn)定的束流,前面板可調(diào)動態(tài)范圍 x300
連續(xù)可變電子束能量,最高達(dá) 5keV
用于電子束掃描和校正的雙電極
用于減小束斑大小的預(yù)目標(biāo)透鏡偏轉(zhuǎn)
集成束流大小監(jiān)測
燈絲不直接到樣品,避免不必要的樣品污染
可更換電子束修剪孔徑板,典型使用壽命> 500 hours
提供雙燈絲備份
內(nèi)部源壓力傳感器,允許監(jiān)控離子源壓力
采用適合超高真空和耐蝕刻的材料
差速泵,以盡量減少主腔室氣體負(fù)載
在惰性氣體下運行
Nonequitur李子源Model 1450設(shè)計特點
可調(diào)節(jié)的光斑尺寸≥5um,用于空間定義的濺射或注入。發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流。連續(xù)可變的束能5kV至50kV。雙八極用于束掃描和像散校正。預(yù)物鏡掃描可減小光斑尺寸。沒有直接的燈絲到樣品視線,以避免樣品污染。客戶可更換的燈絲和束修整孔。雙燈絲在燈絲壽命結(jié)束時提供操作備份。制造中使用的所有UHV兼容和耐蝕刻材料。差分泵送可最大限度地減少主室氣體負(fù)載。在惰性氣體和氮氣范圍內(nèi)工作
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