Harrick  HVC-DRM-5 原位池對于具有高比表面積的粉末特別有效。這使得漫反射成為研究多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機制的一個有價值的工具。這種高溫反應(yīng)室非常適合在仔細(xì)控制的溫度和壓力下進行此類研究。Harrick HVC-DRM-5 原位池應(yīng)用允許在受控壓力和大范圍溫度下進行漫反射（漂移）光譜測量。它與Praying Mantis漫反射裝置 一起作為FTIR和UV-VIS漫反射光譜附件。Harrick 紅外漫反射高溫反應(yīng)室

Harrick 紅外漫反射高溫反應(yīng)室設(shè)計用于從高真空（133μPa或10-6托）到133 kPa（1千托）的KBr窗片操作，或1.5 MPa（11.3千托）的ZnSe窗片操作。
達到高達910°C的溫度（真空條件下）。
易于適應(yīng)高達3.44MPa（25.8ktorr）的操作，帶有可選的高壓圓頂
提供三個入口/出口，用于排空反應(yīng)室和引入氣體。
由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。
可選的Silcotek/Restek惰性涂層具有更高的惰性和耐腐蝕性。
可選冷卻筒，可通過冷卻器或再循環(huán)器進行適度冷卻或加熱。
提供兩個、三個或四個電極電化學(xué)適配器配置。
可用于顯微光譜儀應(yīng)用的替代窗口組件，包括Raman。

HARRICK HVC-DRM-5 原位池包括：
反應(yīng)室。
低壓加熱筒。
K型熱電偶。
樣品包裝工具和溢出托盤。
帶有兩個KBr或ZnSe窗口和一個玻璃觀察窗口（FTIR配置）的穹頂。
具有兩個SiO2窗口和一個玻璃觀察窗口（UV-Vis-NIR配置）的穹頂。

搭配附件：

（1）漫反射裝置 DRP-XXX

（2）溫控儀ATK-024-4